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資訊中心

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  • 機器視覺在新能源行業(yè)中的應用
    近年來,隨著新能源行業(yè)受政策扶持得以快速發(fā)展,尤以光伏、鋰電池市場的發(fā)展最為迅猛。目前,我國鋰電池正朝著能量密度高、續(xù)航里程長、安全性高的方向不斷優(yōu)化。在保持高速發(fā)展的同時,鋰電產品的一致性、良品率、安全性備受關注。 在整個鋰電的生產工藝中,視覺檢測主要應用于以下環(huán)節(jié): ● 電極材料卷膜不良分選 ● 焊接不良檢測 ● 封裝檢測 ● 成品外觀檢測 電極材料卷膜不良分選 在卷膜材料中容易產生涂膜不良,刮傷、裂痕、多料、少料、雜質等問題,這些不良若流...
    2024-07-12 10:59:50
  • 實用!三分鐘徹底搞懂鏡頭景深!
    我們在視覺應用取圖時經(jīng)常會遇到一種情況,被攝物不在一個平面內,這時就涉及到了景深的概念。下面討論下鏡頭景深的定義、與景深相關的參數(shù)和關于景深的誤區(qū)。 景深的定義和計算 景深是指能清晰成像的最遠平面和最近平面的距離。也就是說,在景深范圍內,不同工作距離的物體都可以“清晰”的成像。 以上景深的定義是有問題的,因為沒有明確定義怎樣算“能清晰成像”。光學的物像共軛關系告訴我們最清晰的物面只能有一個。離開了最清晰的物面,圖像肯定是越來越模...
    2024-07-12 10:08:33
  • 未來已至,機器視覺解決方案為芯片制造注入全新活力
    機器視覺設備助力高端制造行業(yè) 在現(xiàn)代芯片制造中,機器視覺技術扮演著至關重要的角色。既提高了芯片制造產線的生產效率,同時確保納米級別芯片的產品擁有高質量與產品一致性。我們將通過五個應用場景,深入剖析機器視覺技術是如何幫助芯片制造行業(yè)提高產線工藝水平,提升芯片質量。 01晶圓檢測 晶圓檢測是芯片制造過程中重要的環(huán)節(jié)。機器視覺系統(tǒng)常被用于晶圓的微小缺陷和污染物的檢測。在精密的晶圓檢測環(huán)節(jié),是不能單純依賴人眼檢測表面缺陷,不僅耗時長且容易出現(xiàn)漏...
    2024-07-11 09:45:13
  • 機器視覺控制軸運動原理是什么?
    過去幾年里,運動控制系統(tǒng)已經(jīng)把機器視覺作為其關鍵部分。越來越多的工程師和科研人員認識到當前的機器視覺技術和運動控制技術相結合對于解決復雜應用問題有相當大的幫助。軟硬件技術的發(fā)展也促進了運動控制和機器視覺系統(tǒng)的結合,并降低了它們的開發(fā)難度和開發(fā)成本。在設計這種系統(tǒng)時,了解目前的技術發(fā)展、方法以及開發(fā)工具會對您的工作提供很大的幫助。 機器視覺控制軸運動原理是一個復雜而深入的主題。下面將從以下幾個方面進行介紹: 1、機器視覺概述 機器視覺是一種模...
    2024-07-11 09:44:05
  • 掩膜版行業(yè)深度報告:光刻藍本亟待突破,國產替代大有可為
    掩膜版:電子制造之底片,晶圓光刻之藍本。 掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉移母版,按照制造材料可以分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他(菲林、凸版、干版),按照下游應用領域可以主要分為平板顯示掩膜版、半導體掩膜版、觸控掩膜版、電路板掩膜版。掩模版對于光刻工藝的重要性不弱于光刻機、光刻膠。在集成電路領域,光掩模的功能類似于傳統(tǒng)相機的“底片”,在光刻機、光刻膠的配合下,將光掩模上已設計好的圖案,通過曝光和顯影等工序轉移到襯底的光刻膠上,進行圖像復制,從而實現(xiàn)批量生產。...
    2024-07-10 10:29:20
  • 半導體芯片——光刻工藝流程
    光刻是半導體芯片生產流程中最復雜、最關鍵的工藝步驟,耗時長、成本高。半導體芯片生產的難點和關鍵點在于將電路圖從掩模上轉移至硅片上,這一過程通過光刻來實現(xiàn),光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平...... 光刻概念 光刻是平面型晶體管和集成電路生產中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔,以便進行雜質的定域擴散的一種加工技術。 一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯...
    2024-07-10 10:27:16
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